磁控溅射阴极

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磁控溅射阴极

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货号：XK07-10

品牌：森鑫

计量单位：台

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：30

选择规格： mus3in MUS2in

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产品详情

简介：
磁控溅射阴极是一种常用于薄膜沉积技术的设备,通过磁场控制靶材的溅射,可以在物体表面形成均匀、致密的薄膜。
1、超高真空全金属密封，可在1*10E-7Pa真空系统中使用；漏率可达1*10E-7PaL/S;
2、外形尺寸∮153*428mm；法兰表面到端面尺寸232mm；
3、安装法兰CF100；安装靶材尺寸直径∮76mm，厚度3—6.4mm；
4、直流和射频兼容，直流功率1000W，射频功率300W；
5、磁铁间接水冷，冷却水管尺寸：8mm；
6、磁控靶进气接口：1 /4 VCR内螺纹；
7、工作压力范围：5*10E-1—15Pa;

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